• 供應07KT94
    • 參考價格:面議
    • 供 貨 量:未提供
    • 所 在 地: 福建 廈門
    • 聯(lián) 系 人:黃瑞東 先生   添加為商業(yè)伙伴
    • 有 效 期:2023年11月29日-2024年05月27日
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    集散控制系統(tǒng)(Distributed Control System-DCS)集計算機技術、控制技術、通信技術、CRT技術于一體,廣泛應用于生產(chǎn)過程控制系統(tǒng)。隨著計算機和網(wǎng)絡技術的飛速發(fā)展,產(chǎn)生了一種新型的控制系統(tǒng)———現(xiàn)場總線控制系統(tǒng)(Fieldbus Control System-FCS)。但國內(nèi)生產(chǎn)企業(yè)的情況是:大多數(shù)企業(yè)還處于模擬儀表和人工控制的階段,采用DCS控制系統(tǒng)的企業(yè)仍是少數(shù)。由于DCS應用廣泛、技術成熟,在現(xiàn)有的技術條件和市場條件下,F(xiàn)CS還不能完全取代DCS,而且目前現(xiàn)場總線設備和系統(tǒng)還十分昂貴。因此,除了新建企業(yè)外,國內(nèi)企業(yè)在較長時間不可能全面采用現(xiàn)場總線技術,而必須走逐步發(fā)展、過渡的道路。 ??我們在上海石化股份公司環(huán)保部水質凈化廠監(jiān)控系統(tǒng)的改造項目中,對3個生產(chǎn)單元已有的DCS和PLC進行改造,增加通信功能,實現(xiàn)總調度室對各生產(chǎn)裝置的集中監(jiān)控。 2?系統(tǒng)改造方案??   根據(jù)水質凈化廠各生產(chǎn)單元的功能和建設階段,分為廠外調節(jié)池、污水一段、氧化溝、四期污水處理、污泥脫水、污泥干化6個生產(chǎn)單元。另外,在廠部設有總調度室,但是總調度室的監(jiān)控水平較為落后,改造之前基本上不能對各個生產(chǎn)單元進行監(jiān)控。為了適應生產(chǎn)需要,提高生產(chǎn)效率,改善操作條件,加強監(jiān)控手段,確保各生產(chǎn)裝置的正常運行,急需對各生產(chǎn)單元和總調度室進行技術和設備的更新改造,從而能在總調度室對各裝置進行監(jiān)視管理,及時了解各裝置的運行情況,達到指揮及時和調度準確的目的。 2.1?現(xiàn)場監(jiān)控系統(tǒng)的改造 ??現(xiàn)場監(jiān)控系統(tǒng)的改造要充分利用原有儀表和設備,主要考慮可靠性和實時性。首先對自控程度較高的3個單元進行改造(系統(tǒng)結構見圖2—1): ??四期污水處理生產(chǎn)單元控制設備配置了兩套ALLEN-BRADELY公司PLC設備。25塊開關量輸入信號卡,可采集384點信號;7塊開關量輸出信號卡,可輸出112點信號;3塊模擬量輸入信號卡,可采集24點信號。兩套AB—PLC通過DH+(數(shù)據(jù)高速通道)實現(xiàn)數(shù)據(jù)共享。在原有的現(xiàn)場控制計算機上分別增加以太網(wǎng)卡,通過以太網(wǎng)將實時數(shù)據(jù)送到總調度室處理。??輸出192點信號;1塊模擬量輸入信號卡,可采集8點信號。系統(tǒng)運行采用遙控開關操作與全模擬流程盤顯示。在原有的Siemens S5-115UPLC上增加RS-232通訊模塊(CP524)和1臺現(xiàn)場操作站,用點對點方法連接,使PLC的數(shù)據(jù)通過現(xiàn)場操作站送到以太網(wǎng)上,與總調度室監(jiān)控計算機通信。但RS-232傳輸速率只有9600bps,操作站僅對現(xiàn)場起到監(jiān)視作用。 1746-BAS /C Allen bradley
    HiPace 700 Pfeiffer Vacuum PM P03 933
    Fujikin 053801
    Ultrapointe 000276
    Foundry Networks FI7202
    TEL Tokyo Electron D117832
    Novellus 02-259457-00 C3
    SCP Global Technology 00018633
    Hitachi 3-849438-90 M712
    Chromasens LC16-WBI-DF
    SMC SS0750-06-X56
    Seiko Seiki P010Y-001Z851-3
    Edwards C10517431
    Asyst Technologies 4002-5202-01
    TAZMO E0R05-2977A
    AMAT Applied Materials X3286
    Lam Research 716-01175-043
    TEL Tokyo Electron 3S86-051844-11
    TEL Tokyo Electron 3S86-051850-11
    ASM Advanced Semiconductor Materials 16-193137-01
    Millipore WGEN21CN1
    BS90A NSR-S204B
    GaSonics A95-108-02-R-G
    KLA-Tencor 740-607107-003
    Axcelis Technologies 17111200/C
    Amray 91219C
    Fujikin 053804
    Nikon 4S017-039
    96-125485A22
    AMAT Applied Materials 0020-25373
    MKS Instruments 100763506G ISO-63
    Semitool A72-40MB-9826-5W
    Haydon E43H4B-2.33-013
    MKS Instruments 122B-11993
    C200H C200H-ID212 C200H-0C22H C200H-NC112 C200H-LK201-V1
    J814B0018 NSR-S620D
    TEL Tokyo Electron 3D10-101277-V2
    Edwards W655-21-611
    Toshiba MCC-1310-01
    AMAT Applied Materials 0200-10027
    Agilent Technologies N1224-60003
    Nikon 2S005-230
    Vacuum Technology GPCC-4-Mix-4MVCR-500DOT-WFL
    Yaskawa Electric SGDM-02ADA
    CKD N4E0  N4E0-T5B
    ASM 1129-538-01  ISO63-NW25
    Tylan General FC-2902M
    TEL Tokyo Electron 3281-000014-16
    Daifuku TFE3419B  A3419B11
    Seiko Seiki P005Y008Z871-3D1
    5F345442
    PPL-23970211
    AMAT Applied Materials 9090-00442  9010-01409ITL
    1VAO-4-TL
    InUSA 369102
    Mitutoyo 09AAA790 4S554-079-1 NSR-S204B
    Novellus 02-259457-00 C3
    VAT 14046-CE34-0005
    KLA-Tencor CS-916-3
    Hitachi 545-5507
    Sumitomo CNFM1-4095-11
    Watec LCL-903K
    ASM 02-180574D01
    NSK ESA-J2006AF3-20
    ISO63
    ASM 02-193179-01
    AMAT Applied Materials 0020-96815
    Nikon KAB11000/360-0 200mm Wafer Chuck KAB11000/A301-7
    DNS Dainippon Screen 2-F3-82700
    Nihon Koshuha WTM-02P-40TI
    Tescom 44-3262JR91-145
    CDL1808A
    Mykrolis FC-2910V
    Nikon 4S013-488 Interface Board PCB RTX4B1 NSR-S307E
    Kokusai CX1307
    AMAT Applied Materials 0010-09318
    AMAT Applied Materials 0150-20112
    Therma-Wave 14-003979
    AdvancedTCA D26196-003
    MBC PC6422 14075
    TAZMO E0R05-1073C
    MKS Instruments 122A-11063
    iH1800 Edwards A53325945XS
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